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真空镀膜机工作的环境要求：
真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。
这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用；而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗，又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真空度很难的。众所周，油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体，当大量抽除可凝性气体时，对泵油的污染会更加严重，结果使泵的极限真空下降，破坏了泵的抽气性能。
工业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体，凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门，也适合于真空对洁净环境的要求。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
真空镀膜机详细镀膜方法如下：
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。
2、打开总电源开关，真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，***无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源。
1）左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
2）低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
8、当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
9、真空镀膜设备开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。
10、低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀。
多功能磁控溅射镀膜系统主要用途：用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。
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