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主要由真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、 PLC+触摸屏自动控制系统等组成。
主机与控制一体化设计，操控方便;结构紧凑，
HDPE占地面积小。
主要用途:
1.开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
2.制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，例:银、铝、铜、C60、BCP......
应用领域:
1.高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。
2.钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业。
产品参数
外形 尺 寸 3100mm(W)*2800mm(D)*3200mm(H)
电 压 380V
功 率 ≤10.5KW
基 片 台 140mm*140mm(可根据客户***基片定制)
真 空 室 1500mm(W)*1500mm(D)*1500mm(H)
SUS304不锈钢方形腔体，前后开门结构，可独立使用，也可与手套箱对接使用
真空系统 分子泵+机械泵
极限真空 优于3*10·5Pa
恢复真空时间 达到7x10-4Pa≤25min
金属蒸发源 2-4组蒸发源(可选)
有机蒸发源 束源炉式有机蒸发源自带控温0-700℃可调
2-4组蒸发源(可选)
电控 系 统 PLC触摸屏控制，程序互锁保护及异常报警
选 配 冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷
掩膜板mask/蒸发电源/钨舟钼舟
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