核桃壳的成分和用途:
每100g核桃壳中含灰分0.663g、水分9.59g、苯醇抽出物3.71g、木质素38.05g、纤维素30.88g、半纤维素27.26g。过去核桃作为干果销售,其果壳难以回收利用,而现在许多核桃被深加工利用,所产生的大量集中的核桃壳却被丢弃或焚烧,造成资源的***浪费。因此,加强对核桃壳的综合利用,避免核桃壳资源的浪费,生产附加值高的产品,不仅可以有效地处理固体废弃物,而且能够变废为宝,提高经济收入。核桃壳的主要应用有: 1.制造活性炭 2.提取棕色素 3.生产抗氧化剂 4.制作抗聚剂 5.作为过滤器中的滤料 6.作为堵漏材料 核桃坚果壳皮可以用于石材打磨,油毛毡工业及生产活性炭,还可以磨碎做肥料。核桃壳属于软质植物抛光材料,具有优良的耐磨性能,均匀的粒度,特高的壳含量。广泛用于模具、仪器、电机、塑料、金银首饰、眼镜、手表、高尔夫球杆、发夹、纽扣等零件的清洗和抛光。核桃壳过滤器具有吸附力强、截污量大;抗油浸、油、悬浮物双效去除;易再生等优良特点。 对于以上这些核桃壳的使用方法,我们需要对核桃壳进行深加工成核桃壳粉。
核桃壳的研磨分散:
称取核桃壳250克进行预处理,将整片较大的核桃壳压碎成小块,便于进料。量取纯净水2000ml,加入核桃壳,用搅拌器进行预混合。将混合好的核桃壳从CMD2000/5研磨分散机的进料口加入,转速调到6000rmp,循环二十分钟,将研磨后的核桃壳溶液烘干检测,核桃壳粉的细度***达到200目以上,50%达到300目。
上海依肯核桃壳研磨分散机的性能参数:
CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
CMD2000系列研磨分散机的结构:
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验***工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。 |
1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度,稠度和最终产品的要求。
3.如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准.
研磨分散机和均质机的作用对比:
研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。