Cr 纯度99.9%铬靶 铬板 溅射靶材 金属铬材料 单质铬靶材
¥1250.00
北京瑞弛生产单质高纯钒靶 99.9%钒靶 金属靶材 磁控溅射
¥580.00
北京瑞弛 Ti-20Siat% 钛硅合金 金属靶材 钛硅合金靶材
¥580.00
高纯镍钒靶 NiV靶 半导体靶材 薄膜太阳能靶材 镍合金靶 镍钒管靶
¥25200.00
Ni38Cr4Al2Siwt% 镍铬铝硅 纯度99.5% 镍铬铝硅靶材
¥18000.00
我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量：
纯度≥ | 含量（%）≤ | ||||||
Fe | Si | Al | C | N | O | S | |
99.2 | 3000 | 2500 | 2000 | 200 | 500 | 2000 | 100 |
99.5 | 2000 | 2000 | 1200 | 200 | 500 | 1500 | 100 |
99.7 | 1200 | 1000 | 1000 | 200 | 300 | 1200 | 100 |
99.8 | 1000 | 800 | 600 | 200 | 200 | 1000 | 100 |
99.9 | 500 | 200 | 300 | 150 | 100 | 500 | 50 |
99.95 | 200 | 100 | 100 | 100 | 100 | 300 | 50 |
铬是银白色有光泽的金属，纯铬有延展性，含杂质的铬硬而脆。密度7.20g/cm3。可溶于强碱溶液。铬具有很高的耐腐蚀性，在空气中，即便是在赤热的状态下，氧化也很慢。不溶于水。镀在金属上可起保护作用。
金属铬生产则采用金属热还原（铝热）法及电解法。
铝热法生产包括从铬矿制取氧化铬和铝还原氧化铬制得金属铬两道工序。铝热还原要求原料含 Cr2O3大于***，含硫低于0.02%,含铅、砷、锡、锑各低于0.001%。铝粒粒度应小于0.5毫米，铝量应不大于理论量的98%。用硝石、镁屑和铝粒作引火剂。
电解法生产一般用碳素铬铁作原料，采用铬铵矾法电解流程。电解法生产一般用碳素铬铁作原料，采用铬铵矾法电解流程。用+6价铬溶液电解（电流密度 9500A/m2，温度84～87℃），可得高纯度金属铬（含氧0.01～0.02%），但电流效率很低（6～7%）。
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