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供应上海市真空裂解炉真空高温氮化硅炉,温度2000度

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上海晨华科技股份有限公司 3年
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产品详情

卧式真空高温氮化烧结炉

一、      用途:可用于氮化硅材料在气氛高温下、真空下烧结处理。

二、结构:是采用石墨棒作发热元件,卧式结构,

三、     技术参数

               温度:2000℃ 使用温度1800-1900℃ 

               有效工作区尺寸:2500深×500高×宽900mm

               冷态极限真空度:≤1.0PA  

              控温区:四区

             电器控制:可编程序控制器控制+触模屏 

             操作方式:自动/手动

             控温元件:钨铼热电偶进出+进口红外仪

             温度控制精度:≤±1℃

             气氛介质:氮气、氩气

             充气压力:<10kpa

             冷却水要求:水质按GB10067.1-88国标,总硬度CaO<10

             使用要求:海拔1000M以下、环境温度0-45度、温度15%-85%

   

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