卧式真空高温氮化烧结炉
一、 用途:可用于氮化硅材料在气氛高温下、真空下烧结处理。
二、结构:是采用石墨棒作发热元件,卧式结构,
三、 技术参数
温度:2000℃ 使用温度1800-1900℃
有效工作区尺寸:2500深×500高×宽900mm
冷态极限真空度:≤1.0PA
控温区:四区
电器控制:可编程序控制器控制+触模屏
操作方式:自动/手动
控温元件:钨铼热电偶进出+进口红外仪
温度控制精度:≤±1℃
气氛介质:氮气、氩气
充气压力:<10kpa
冷却水要求:水质按GB10067.1-88国标,总硬度CaO<10
使用要求:海拔1000M以下、环境温度0-45度、温度15%-85%