京迈研 贵金属铂（Pt）靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥1400.00
京迈研 贵金属钯（Pd）靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥1400.00
京迈研 硅（Si）靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥500.00
京迈研 碲(Te)靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥700.00
铪（Hf）靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
铪为银灰色的金属，有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。金属铪有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料。
晶体结构有两种:在1300℃以下时，为六方密堆积(α-式);在1300℃以上时，为体心立方(β-式)。具有塑性的金属，当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定，灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用，但易溶解在王水和氢氟酸中。在化合物中主要呈+4价。五碳化四钽铪(Ta4HfC5)是已知熔点的物质(约4215℃)。
中文名 | 铪 | 熔点 | 2227℃ |
化学式 | Hf | 沸点 | 4602℃ |
原子量 | 178.49 | 密度 | 13.31克/立方厘米(20℃) |
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位***，质量***，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量***材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。
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