高纯Hf铪靶材、(HfO2)二氧化铪、HfZrO₂ 化合物PVD真空镀膜靶材

¥500.00 1克起批
¥450.00 ≥2克

参数

Hf-01牌号
上海产地
99.99铪含量≥

发货地上海松江区 15天内发货供货总量5000克

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高纯锰 Mn靶材磁控溅射靶材真空熔练合金靶纯度99.99% ¥350.00

(Nb）高纯铌靶材、氧化铌Nb₂O₅、MoNb钼铌靶材纯度99.999% ¥550.00

镧La靶材磁控溅射 PVD真空镀膜靶材稀土金属颗粒稀土含量99.99% ¥180.00

高纯贵金属钯(Pd) 科研实验溅射镀膜蒸发镀膜纯度99.999% ¥180.00

高纯金属Cr铬靶材磁控溅射蒸发颗粒纯度99.99% 坚硬脆性的金属 ¥450.00

金属 Gd钆靶材磁控溅射 PVD真空镀膜蒸发颗粒纯度99.99% 尺寸定制 ¥90.00

产品详情

1、Hf铪靶材，是一种高端且精密的磁控溅射靶材

一、Hf铪靶材，作为一种高端且精密的磁控溅射靶材，在现代科研、高等教育实验室以及工业镀膜技术中占据着举足轻重的地位。其独特的材料特性——高纯度、优异的物理性能以及***的化学稳定性，共同构筑了Hf靶材在多个领域广泛应用的基础。我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

二、材料特性解析

1、高纯度：Hf铪靶材的纯度是其核心价值所在。市场上高品质的Hf靶材往往能达到99.95%甚至更高的纯度标准，这意味着在制备过程中几乎去除了所有杂质元素，从而确保了溅射过程中产生的Hf离子束的纯净度。高纯度不仅提升了镀膜或薄膜的均匀性和一致性，还减少了因杂质引起的性能下降或缺陷，为科研和工业应用提供了可靠保障。

2、良好的物理性能：Hf铪作为一种过渡金属，具有适中的密度和较高的熔点（约2233°C）。适中的密度使得Hf靶材在溅射过程中能够保持稳定的溅射速率和溅射效率，而高熔点则确保了靶材在高温环境下的稳定性和耐久性。这些物理性能共同赋予了Hf靶材在***条件下工作的能力，满足了高精度、高稳定性镀膜工艺的需求。

3、化学稳定性：Hf铪靶材在多种化学环境中均表现出良好的稳定性，不易与常见气体或溶液发生反应。这种化学稳定性使得Hf靶材在镀膜过程中能够保持其原有的物理和化学性质，避免了因化学反应导致的性能变化或污染问题。

三、行业应用优势

1、科研与高校实验室：在科研和高校实验室中，Hf靶材因其高纯度和优异的性能成为制备高质量薄膜、纳米材料以及进行材料表面改性的理想选择。科研人员可以利用Hf靶材进行各种基础研究和应用开发，探索新材料、新技术和新工艺，推动科技进步和产业升级。

2、工业镀膜：在工业镀膜领域，Hf靶材的应用范围广泛且深入。无论是半导体制造中的栅极材料、光学器件中的反射膜还是太阳能电池中的电极材料，Hf靶材都能凭借其高精度和高稳定性为产品提供***的性能保障。特别是在需要高纯度、高均匀性和高附着力的镀膜工艺中，Hf靶材更是不可或缺的关键材料。

3、定制化服务：随着市场需求的多样化和个性化发展，Hf靶材供应商开始提供更加灵活和定制化的服务。不同规格、不同纯度和不同加工方式的Hf靶材应运而生，以满足不同客户在不同应用场景下的特定需求。这种定制化服务不仅提升了Hf靶材的市场竞争力，还促进了其在更广泛领域的应用和发展。

综上所述，Hf铪靶材以其高纯度、良好的物理性能和化学稳定性在科研、高校实验室以及工业镀膜等领域展现出了巨大的应用潜力和价值。随着技术的不断进步和市场需求的持续增长，Hf靶材必将在未来发展中发挥更加重要的作用，为科技进步和产业发展贡献更多力量。

2、Hafnium Oxide (HfO2)二氧化铪靶材，是一种高端且精密的磁控溅射靶材

一、 HfO2，即二氧化铪，是一种由铪元素和氧元素组成的化合物，因其独特的物理化学性质，在多个高科技领域具有广泛的应用价值。以下是对HfO2靶材材料的特性及其在行业中的应用优势的详细阐述。

二、材料特性解析

首先，从纯度方面来看，HfO2靶材的纯度通常高达99.***，这为其在高端科技领域的应用提供了坚实的基础。高纯度的靶材能够确保制备出的薄膜具有优异的电学和光学性能，减少因杂质和缺陷导致的性能下降。在半导体、光学和光伏行业中，薄膜的纯度直接关系到产品的性能和可靠性，因此，高纯度的HfO2靶材成为这些领域不可或缺的材料。

其次，密度是材料的一个重要物理性质。HfO2靶材的密度约为9.68g/cm³，这使得它在制备薄膜时能够提供更好的溅射效率和覆盖均匀性。高密度的靶材在溅射过程中能够释放出更多的原子或分子，从而提高薄膜的生长速率和厚度均匀性。此外，密度还影响材料的硬度和耐磨性，使得HfO2靶材在制备耐磨、耐腐蚀薄膜方面具有***优势。

熔点方面，HfO2靶材的熔点高达2758℃（也有说法认为其某种晶体结构的熔点为2050℃左右），这一特性使其在高温环境下具有***稳定性和耐久性。高熔点意味着HfO2靶材能够在***高温条件下保持结构稳定，不易熔化或变形，这对于制造高温部件、高温传感器等应用至关重要。此外，高熔点还使得HfO2靶材在制备高温薄膜时具有独特的优势，能够在高温下保持薄膜的完整性和性能。

三、行业应用优势

在行业中，HfO2靶材的应用优势主要体现在以下几个方面：

1、半导体行业：HfO2作为一种高介电常数氧化物，在半导体行业中被广泛用作栅介质材料。由于其高介电常数和良好的热稳定性，HfO2靶材能够替代传统的SiO2栅极绝缘层，解决MOSFET等传统器件中SiO2/Si结构的发展尺寸极限问题，提高器件的性能和可靠性。

2、光学行业：HfO2靶材在光学领域的应用主要集中在制备高透光率、高折射率的薄膜上。这些薄膜被广泛应用于LED、太阳能电池等光电器件中，能够***提高器件的光吸收能力和光电转换效率。此外，HfO2靶材还可用于制备干涉膜、增透膜等光学薄膜，提高光学器件的性能和稳定性。

3、航空航天和化工领域：由于HfO2靶材具有优异的耐高温、耐腐蚀、高硬度等特点，使其在航空航天和化工领域具有广泛的应用前景。在航空航天领域，HfO2靶材可用于制造高温发动机部件、高温涡轮叶片等高温部件；在化工领域，HfO2靶材可用于制造高温反应器、高温催化剂等耐腐蚀设备。

综上所述，HfO2靶材以其高纯度、高密度和高熔点等独特性质，在半导体、光学、航空航天和化工等多个领域展现出广泛的应用优势。随着科技的不断发展，HfO2靶材的应用前景将会更加广阔，为科技进步和产业发展提供有力支撑。

3、一、HfZrO₂的基本性质

1、组成成分：HfZrO₂是由铪（Hf）、锆（Zr）和氧（O）组成的化合物。

2、晶体结构：它具有特定的晶体结构，这种结构赋予了它一些特殊的物理和化学性质。

4、密度：具有较高的密度，这对于其在某些应用中的性能有重要影响，例如在薄膜沉积时对薄膜的致密性可能产生关联。

5硬度：通常具有一定的硬度，这使得它在耐磨等方面可能有潜在的应用价值。

公司生产氧化物靶材如下：