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工业高纯铝主要做电解电容器用的阳极箔、电容器引线、集成电路导线、真空蒸发材料、超导体的稳定导体、磁盘合金和高断裂韧性铝合金的基体金属，以及在科研、化工等方面的特殊用途
***纯铝具有许多优良性能，用途广泛。它具有比原铝更好的导电性、延展性、反射性和抗腐蚀性，在电子工业及航空航天等领域有着广泛的用途。5N5-6N的***纯铝（每种杂质的含量0.4ppm）96%用于半导体器件制造行业，4%用作超导电缆的稳定化材料
在制造集成电路芯片时阴极溅射是一道***的工艺，这是一种特殊的高技术工艺，蒸发的呈等离子状态的铝沉积于阴极靶面，即在硅片上形成一层薄薄的均匀的极少缺陷的铝膜，随后在膜上涂一层感光性树脂，经曝光后除去无用的部位即未感光的树脂，也就是把这些处的树脂腐蚀掉，而保留的极窄的铝条便是所需的导电体。阴极溅镀用的铝越纯，其电导率也就越高***纯铝的另一重要用途是作为集成电路的配线。***纯铝中的痕量杂质铀与钍是越少越好，因为它们是放射性元素，在时时释放α粒子，从而造成集成电路出现故障，使程序失误与混乱。TADE生产的5N2高纯铝中U+Th<5ppb（wt%）,5N5***纯铝中U+Th<1ppb（wt%）。
5N及5N5的大尺寸板状靶材，大规模应用于PDP及TFT-LCD平板显示器，太阳能电池镀膜用溅射靶材。板靶原材料中Fe、Si、Cu、V、Ti等杂质完全符合相应标准。在超导领域，***纯铝用作超导电缆的稳定化材料。
在电子领域5N超纯铝用于制造光电子存储媒体，如CD、CD-ROM、CD-RW、数据盘或微型盘、DVD银盘等，在银盘中用5N超纯铝溅射膜作为光反射层。超纯铝中的杂质含量极少。
杂质含量极少使得超纯铝具有一些特殊的性能优点
典型的性能特点
1．不纯物元素含量极低。杂质元素含量越低，金属间化合物密度越小
2．导电性能良。3RRR值高，在极低温区的电阻非常小。
3．光反射性能非常强，对紫外线有很高的反射率！
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