纯源镀膜专注于:磁控溅射技术的开发与升级,实现设备持久稳定、性价比***、售后服务完善的体系。
设备参数:
设备介绍:IS系列镀膜机是采用本公司成熟的技术:高能离子束清洗(Ionbeam Cleaning)+磁控溅射源(Magnetron Sputtering ),设备采用全自动化控制,模块化集成优化,设备功***、稳定性能好、操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求,腔室内可设计配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种靶材,可获得致密度高、均匀性能好的多层复合膜,包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等;适合研发及批量镀膜服务。
设备特点:
1. ***的技术,特殊设计的磁场及工艺气路,有效提升靶材利用率以及长期工艺稳定性;
2. 模块化通用接口,直接兼容不同形式阴极靶材,允许直流脉冲、中频、射频工作模式;兼容性强
3. 自主设计的全自动智能化工艺操作系统,提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力,配备实时工艺参数监控系统,允许在线远程控制。
应用范围:
1.可镀Cu、 Au、Cr、Ni、Ta、TiN、TiC、 TiCN、TiAlN、 CrN、 DLC等金属、非金属以及氧化物膜层;
2.可用于液晶显示、硬质耐磨、太阳能电池、材料保护和防腐、建筑物玻璃、光学和装饰膜层、铁磁材料等各个领域;
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-材料实验室-检测结果