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EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System
EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到150毫米
技术数据
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其***的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括邮票的释放机制。 EV Group***卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。
特征
顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和配方控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
最小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念（***数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和光刻工艺之间的转换； 台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：150毫米的碎片
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程
柔软的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外线LED光源
自动分离：不支持；
工作印章制作：外部；
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产品参数
- 国内总代
- 是
- EVG
- EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
- 启用3D集成以获得更多收益
- 111111
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- 纳米压印光刻（NIL）
- EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
- 否
