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日本CRESTEC 电子束光刻 CABL-9000C 系列最小线宽可达 8nm

参数
  • 电子束光刻产品特性
  • 加工定制
  • 日本 CRESTEC品牌
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北京亚科晨旭科技有限公司 1年
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产品详情

Electron Beam Lithography System(EBL)

电子束光刻系统

 

日本 CRESTEC 是世界上制造专业电子束光刻设备的知名厂商之一,其制造的电子束光刻机以其独特的专业技术,***的电子束稳定性,电子束定位精度以及拼接套刻精度赢得了世界上***科研机构以及半导体公司的青睐。其中 CABL 系列更是世界上***的产品之一。






 


 

 


CRESTEC CABL 系列采用专业的恒温控制系统,使得整个主系统的温度保持恒定,再加上主系统内部精密传感装置,使得电子束电流稳定性,电子束定位稳定性,电子束电流分布均一性都得到了***的提高,其性能指标远远高于其它厂家的同类产品,在长达 5 小时的时间内,电子束电流和电子束定位非常稳定,电子束电流分布也非常均一。


 

由于 EBL 刻写精度很高,因此写满整个 Wafer 需要比较长的时间,因此电子束电流,电子束定位, 电子束电流分布均一性在长时间内的稳定性就显得尤为重要,这对大范围内的图形制备非常关键。

 

CRESTEC CABL 系列采用其***的技术使其具有极高的电子束稳定性以及电子束定位精度,在大范围内可以实现图形的高精度拼接和套刻。

 

 

Stitching accuracy

50nm (500μm sq., μ+ 3σ)

 

20nm (50μm sq., μ+ 2σ)

 

Overlay accuracy

50nm (500μm sq., μ+ 3σ)

 

20nm (50μm sq., μ+ 2σ)






Stitching accuracy for slant L&S 10nm


该图是在 2 英寸 wafer 上,采用 50 um 的图案进行拼接,写满整个片子,其拼接精度低于 10 nm.实验室数据)。

CRESTEC CABL 系列还可以加工制备 10 nm 以下的线条,无论半导体行业还是在其它领域

CRESTEC 的电子束光刻产品都发挥了巨大的作用。

 

主要特点:

1.采用高亮度和高稳定性的 TFE 电子枪

2.***电子束偏转控制技术                                      3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率(address size)可达 0.0012nm

4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达 0.01mrad

5.应用领域广泛,如微纳器件加工,Si/GaAs 兼容工艺,研究用掩膜制造,纳米加工(例如单电子器件、***器件制作等),高频电子器件中的混合光刻(Mix & Match),图形线宽和图形位移测量等。


电子束光刻 CABL-9000C 系列最小线宽可达 8nm,最小束斑直径 2nm,套刻精度

20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)

 

技术参数:                         1.最小线宽:小于 10nm8nm available) 2.加速电压:5-50kV

3.                2nm 4.套刻精度:20nm(mean+2σ)                                    5.拼接精度:20nm(mean+2σ)                                    6.加工晶圆尺寸:4-8 英寸(standard)12 英寸(option)

7.描电镜分辨率:小于 2nm





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