电子束光刻系统
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电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
Improved Specifications
· Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
· Extreme beam current up to 350 nA
· Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
. 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
00002. 155mm的平台
最小曝光特征尺寸小于8nm
高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，可以到1mm
GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
可选的系统增强升级
EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常***、高自动化的电子束光刻系统。
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