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我国真空镀膜机行业发展现状和前景分析
随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求也不断提高，单一材料性能已不能满足某些特定环境下工作机械的性能要求。国内真空离子镀膜机经过几十年的发展，相对于国外高1端镀膜设备而言，自动磁控溅射镀膜机哪家好，在自动化程度与技术上取得了一定的进步，但在镀膜产品稳定性和准确性方面尚需提升，高1端设备仍依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。
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溅射镀膜机溅射镀技术应用
蒸发镀应用新型电极 引入装置，自动磁控溅射镀膜机品牌，接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作 方便、高效。 (或双门蒸发、磁控两用机) 公司业务范围真空镀膜成套设备与技术，吉林自动磁控溅射镀膜机，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空设备故障诊断与排除、老 产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，自动磁控溅射镀膜机原理，配用改进型高真空抽 气系统及全自动控制系统，抽速快、效***、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理 想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。
磁控溅射镀膜机工艺
关键工艺参数的优化
关键工艺参数的优化基于实验探索。实验是在自制的双室直流磁控溅射镀膜设备上进行的。该设备的镀膜室采用内腔尺寸为6700mm ×800mm ×2060mm的箱式形状，抽气系统采用两套K600 扩散泵机组，靶材采用德国Leybold 公司生产的陶瓷靶，ITO 薄膜基底是尺寸为1000mm ×500mm ×5mm 的普通浮法玻璃。
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