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供应沥青胶体磨,立式胶体磨,实验室胶体磨,中试胶体磨

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沥青胶体磨,立式胶体磨,实验室胶体磨,中试胶体磨

CM2000/4实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CMO2000系列,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到***的研磨参数。

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研磨头的表面涂上了一层***坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和***的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

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CM2000/4PP系列)为中试型胶体磨的技术参数:功率2.2-4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700/小时(水),重量45KG, 尺寸 (长宽高)((450X250X350)MMPP使用双机械密封,可24小时不停机连续生产,并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块,可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准,是中试和小批量生产的选择。

 

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