碳C靶磁控溅射靶材电子束蒸发料溅射镀膜靶材科研材料背板绑定

¥210.00 1件起批
¥200.00 ≥2件

参数

熔点高产品特性
C-002品名
碳材质

发货地江苏苏州 5天内发货供货总量1000件

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硫化镉CdS靶磁控溅射镀膜靶材科研实验材料尺寸定制背板绑定服务 ¥175.00

金属钴Co溅射靶材磁控溅射镀膜靶材尺寸定制背板绑定服务 ¥210.00

高纯金属CuInSe2（铜铟硒）溅射靶材磁控溅射镀膜靶材背板绑定 ¥95.00

(Cu)铜靶材高纯度99.9999% 磁控溅射镀膜靶材颗粒科研实验材料 ¥95.00

(Fe2O3)氧化铁靶材磁控溅射 PVD真空镀膜靶材科研实验材料 ¥98.00

高纯金属 Iron+（Fe）铁靶材 PVD真空镀膜靶材科研实验材料 ¥100.00

产品详情

高纯金属碳靶材 C靶材磁控溅射靶材电子束蒸发料溅射镀膜靶材科研实验材料尺寸定制背板绑定服务

Carbon (C) 靶材溅射技术中的关键材料

一、碳靶材，作为溅射技术中的关键材料，以其***的电导和热导性能在微电子电路制造与硬质涂层行业中占据了举足轻重的地位。这种材料不仅为现代科技的进步提供了坚实的基础，还***推动了相关行业产品性能的提升。

我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

二、材料特性：

碳靶材具备高纯度、高密度以及高熔点的***优势。高纯度意味着碳靶材在制备过程中能够限度地减少杂质含量，从而确保溅射薄膜的纯净度和一致性，这对于微电子电路中的精密元件尤为重要。高密度的特性则有助于提升靶材的溅射效率和稳定性，确保在镀膜过程中能够均匀、高效地沉积在基材表面。此外，碳材料的高熔点（如石墨的熔点高达3652ºC）使得靶材在高温环境下依然能够保持稳定的物理和化学性质，为高温溅射工艺提供了可能。

三、行业领域应用：

1、在微电子电路制造领域，碳靶材的应用优势尤为突出。随着集成电路技术的不断发展，对薄膜材料的要求日益严格。碳靶材通过溅射技术制备的薄膜，不仅具有***的硬度，能够有效抵御外界的物理磨损和化学侵蚀，还***增强了电路的电性能，如导电性和信号传输速度。同时，高热导性的特性有助于快速散热，保护电路元件免受高温损害，提高整体系统的稳定性和可靠性。因此，碳靶材在制造高性能集成电路、微处理器等关键电子元件中发挥着***的作用。

2、在硬质涂层行业中，碳靶材同样展现出了巨大的应用潜力。通过溅射技术在工具、模具等基材表面沉积一层均匀的碳薄膜，可以***提升其表面硬度和耐磨性，延长使用寿命，降低生产成本。特别是在高速切削、精密加工等领域，碳靶材制备的涂层工具已成为不可或缺的重要工具。

综上所述，碳靶材以其优越的电导、热导性能以及高纯度、高密度、高熔点的材料特性，在微电子电路制造和硬质涂层行业中发挥着关键作用。它不仅提高了产品的整体性能，还推动了相关行业的持续进步和发展。随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展，碳靶材的市场前景将更加广阔。

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