钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯,再经加工得到的产品,具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。
CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜,与多晶态薄膜,主要是钴Co,钴铁CoFe和坡莫合金NiFe三种磁性薄膜,其中的非磁性隔离层是铜Cu等贵金属材料形成的三明治膜层,具有极薄的总体厚度(10nm左右),较大的磁阻效应(10%以上),稳定的单畴态,优越的翻转特性,翻转场均匀性偏差<8%,是生产RAM、MRAM等存储器件的重要的膜层材料。
北京瑞弛高科技有限公司专业提供钴铌锆靶材,可以根据客户要求定制,如需要更多的信息,敬请联系我们。