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自动磁控离子溅射仪 型号:GVC-2000 金洋万达

参数
  • 操作简单产品特性
  • 是否进口
  • 北京产地
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北京金洋万达科技有限公司 9年
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产品详情



产品介绍:

磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在电子显微镜领域内,往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或者图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电反应,降低电子束对样品表面的热量损伤,可以提高SEM对样品进行形貌观察,所需要的二次电子信号量。喷金后可以提供二次电子产额,提升信号强度和图像质量。

特点:

仪器采用微处理器控制,自动化程度高控制、易于操作;

低电压、较好真空度下的实现大电流溅射,可溅射金、银、铜、铂等常用金属靶材;

金膜颗粒绝大多数<10nm,颗粒更细,均匀度更好,附着力更强,观测效果更佳;

靶材利用率更高,磁控溅射靶材利用率为直流溅射的2倍,为用户节约靶材费用.

电子和负离子被磁场束缚在靶材附近,镀膜过程中基本没有温升,适用温度敏感性样品;

采用微处理器控制,扩展性能好,可实时显示真空度、溅射电流、溅射时间、设备运行时间、靶材使用时间等,方便了解设备情况,具备过流、真空保护功能

内置用户使用向导和说明书,方便用户 操作;内置膜厚估算公式,便于用户了 解离子溅射仪工作状态;

技术参数:

输入电压

AC220V±10%,50Hz

工作电压

DC2400V

功率(主机与机械泵)

500W

工作原理

磁控溅射

可选靶材

金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属

真空泵

两级直联旋片式真空泵 1L/s

真空腔

φ128×130mm

样品杯

φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

整机尺寸(长×宽×高)

424×271×255(mm)

重量(主机)

11kg

工作环境

温度 5~40℃,湿度<60%

存储环境

温度-10~60℃,湿度<80%

工作气体

Air / Ar

保护功能

过流、真空双保护

公司承诺:质量服务承诺:

1.保修期一年,终生免费维护。

2.在保修期内,除人为因素外,任何因仪器设计、材料或工艺不当引起的缺陷、故障我们免费修理或更换。

3.接到用户通知所提供的仪器出现故障后,十分钟内回应.

4.及时向用户以优惠的价格提供所需的备品备件和易

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