片状氧化铝粉研磨抛光用不产生划痕40微米45微米50微米
¥55.00
钛合金喷砂用硅酸锆珠-陶瓷砂B60
¥63.00
研磨大理石用黑碳化硅F360中值40微米黑色金刚砂W40
¥12900.00
酸洗水分黑碳化硅W10即JIS2000#黑碳微粉
¥12900.00
铝合金喷砂喷丸用锆砂B100(125-180微米）
¥63.00
Microgrit 氧化铝抛光粉99含量颗粒平板状WCA12品质
平板状氧化铝抛光粉是以优质工业氧化铝粉为原料，采用特殊生产工艺处理，生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状，因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。
平板状氧化铝的氧化铝纯度***以上，具有耐热，耐酸碱腐蚀，硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同，平板状氧化铝的底面平整，研磨时颗粒贴合工件表面，产生滑动的研磨效果，避免了颗粒尖角对工件表面的划伤，另一方面，平板状氧化铝进行研磨时，研磨压力是均匀分布在颗粒表面，颗粒不易破碎，耐磨性能提高，从而提高了研磨效率和表面光洁度。
HXTA03电镜图:
HXTA15电镜图：
对于半导体材料如半导体硅片，平板状氧化铝的应用，可以减少磨削时间，大幅提高研磨效率，减少磨片机的损耗，节省人工和磨削成本，提高磨削合格率。品质接近国外品牌。
显像管玻壳磨削工效提高3-5倍；
合格品率提高10-15%，半导体硅片合格品率达到***以上；
研磨消耗量比普通氧化铝抛光粉减少40-40%；
Microgrit 氧化铝抛光粉99含量颗粒平板状WCA12品质化学成分：
Al2O3 | ≥99.0% |
SiO2 | ＜0.2 |
Fe2O3 | ＜0.1 |
Na2O | ＜1 |
Microgrit 氧化铝抛光粉99含量颗粒平板状WCA12品质物理性能：
化学成分 | α-Al2O3 |
颜色 | 白色 |
比重 | ≥3.9g/cm3 |
莫氏硬度 | 9.0 |
生产规格：
型号 | D3(um) | D50（um） | D94（um） |
HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
粒度检测报告：
产品应用范围：
1）电子行业 ： 半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体（砷化镓、磷化铟）的研磨抛光。
2）玻璃行业 ： 水晶，石英玻璃，显象管玻壳屏，光学玻璃，液晶显示器（LCD）玻璃基板，压电石英晶体的研磨加工。
3）涂附行业 ： 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4）金属和陶瓷加工业：精密陶瓷材料，烧结陶瓷原料，***高温涂料等
包装：10公斤/塑料袋，20公斤/箱
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