KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。
磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控溅射的原理是,在电场内在叠加一个磁场,这样电子在叠加场内做螺旋运动,行程很长,每个电子电离的气体分子比直流多很多很多,所以可以在低电压下,有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高,所以镀膜的颗粒小,膜层附着力好,靶材的利用率也高。
在直流溅射过程中,样品的温升主要来自于负离子在电场作用下对样品的轰击,在磁控溅射中,负离子都被磁场束缚了,所以基本没有对样品的轰击,所以温升基本没有,很适合温度敏感性的样品制备。