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电子级硅溶胶,CMP抛光液,硅溶胶

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参数

安徽蚌埠原产地
99.9999二氧化硅含量
CMP抛光用途

发货地安徽蚌埠不限

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纳米硅溶胶电子级硅溶胶纳米二氧化硅溶液精密抛光 SiO2

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产品详情

CMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing，即化学机械抛光。CMP技术是晶圆制造的必须流程之一，对高精度、高性能晶圆制造至关重要。

抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，为均匀分散的乳白色胶体，起到研磨、腐蚀溶解等作用，主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。

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产品参数

原产地安徽蚌埠
二氧化硅含量99.9999
用途CMP抛光

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