1F. 光刻工艺种类
化合物半导体
LED行业 CSP芯片级封装 正性 负性 光刻胶 干法刻蚀工艺 高膜厚 耐高温 蒸镀 成分稳定 专业
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广东 深圳
生产 LED行业 高压芯片(HV)倒装芯片(FC)光刻胶 蒸镀 lift-off工艺 高膜厚 耐高温
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广东 深圳
应用 LED 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 凸点UBM工艺 高膜厚 耐高温 电镀耐受
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广东 深圳
应用 LED Metal mesh工艺 金属网格触摸屏 柔性 光刻胶 高粘附力 耐刻蚀 铜蚀刻工艺
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广东 深圳
2F. 光刻工艺项目区域要求
全国
供应供应韩国荣昌LED工艺用正性光刻胶YPP-3000
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天津
供应供应韩国荣昌LED工艺用正性光刻胶YPP-S10k
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供应供应韩国荣昌LED工艺用负性光刻胶YNP-3000
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