99.***高纯钛靶材：矩形钛靶材-钛平面靶材

¥800.00 1 - 9
¥700.00 ≥10

参数

高纯产品特性
Ti材质
湖南产地

发货地湖南长沙不限供货总量8000片

长沙市啟睿新材料有限公司: 进入店铺在线咨询

九铭特钢TA1/TA2钛合金加工件钛异形加工钛靶材环件等可定制 ¥115.00

高耐热性TC4钛合金板材 tc4钛棒 Ti-6Al-4V钛板钛靶材原厂质保 ¥103.00

LY航达镀膜钛靶材 tc4钛合金靶材钛合金加工件可定制 ¥120.00

TA2/TC4钛锻件钛环钛饼钛靶材九铭其他钛加工件订制 ¥98.00

铜钛靶材铜钛合金材料 99.95%CuTi 溅射靶材支持定制 ¥195.00

高纯铬靶材高纯锆靶材高纯硅靶材高纯金属管靶（UVTM） ¥720.00

产品详情

钛是一种密度很低的强金属，具有很强的韧性（尤其是在无氧环境中）。相对较高的熔点（超过1650℃或3000℃）℉ ) 使其成为一种有用的难熔金属。它是顺磁性的，具有相对较低的导电性和导热性。钛溅射靶常用于五金工具涂层、装饰涂层、半导体元件和平板显示器涂层。它是制备集成电路的核心材料之一，纯度通常要求在99.***以上。我们提供钛合金靶材，如钨钛（W/Ti 90/10 wt%）溅射靶材，这是半导体和太阳能行业的基本材料。钨钛溅射靶密度可达14.24g/cm3以上，纯度可达99.995%。

钛溅射靶信息：
纯度：99.9-99.9***
圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm
块：长度<=32英寸，宽度<=12英寸，厚度>=1mm
靶材类型：平面溅射靶材、旋转溅射靶材

钛溅射靶分析
沉积技术用于制造高纯度的钛溅射靶。纯度可达99.9***。我们使用的分析方法包括：

1.使用ICP-OES分析金属元素。

2.使用LECO分析气体元素。

更多关于钛溅射靶的信息

应用

•装饰涂层

•硬件工具涂层

•半导体

•平板显示器

特征

•有竞争力的定价

•高纯度

•晶粒细化、工程化微观结构

（平均粒度<20微米）

•半导体级

制造工艺

•熔化（电子束熔化）

•分析

•铸造和晶粒细化

锻造、轧制、退火、显微照相、机加工

•清洁和最终包装-清洁后在真空中使用

保护环境免受污染

装运期间的保护

选项

•99.9%的***纯度

•提供半导体级钛合金

Ti/Al，W/Ti 90/10 wt%）

•更小的尺寸也可用于研发应用

•溅射靶键合服务