高纯铜颗粒 纯度99.9999铜颗粒 Cu金属材料 支持定制
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研创新材高纯溅射铜靶材 熔炼添加铜颗粒 铜块 铜丝 铜粉
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中诺新材 铜颗粒 4N-6N 半导体器件 小包装当天发货
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北京瑞弛生产高纯溅射靶材铜颗粒 纯度99.9***金属靶材
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北京研邦新材料科技有限公司为您长期供应高纯金属，高纯靶材，以及靶的相关产品。
常规靶材生产工艺为：铸锭（感应电溶解电子束熔炼法连续铸造）→→成型（锻造→热轧或冷轧→拉伸）→→热处理（均质化，再烧结）→→精密机械加工（切削，铣，车，磨，刨）→→与背板结合（软焊，扩散焊）→→检测（超声波，X光射线探伤）→→包装运输
北京研邦新材料科技有限公司其它高纯靶材及镀膜材料如下：
1 高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括：纯铁，铜，铝，铅，锌，镍，锡，铬，钒，锰，镁，镉，铋，锑，钛，锆，铪，铟，硒，碲，镓，锗，铼，钨，钼，钽，铌，硼，硅，贵金属等的锭，棒材，丝材，板材，带材，箔材，颗粒，粉末。
2 高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。
3 合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
4 陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶材CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2 二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiO2, 二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、、二氧化铪靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化硅靶，氮化钛靶，铌酸锂靶、、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。
注所有产品规格可根据客户要求定做。
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