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纳米氧化铝高速分散机,金属氧化物纳米高速分散机 。纳米材料高速分散机

参数
  • 分散产品特性
  • IKN品牌
  • CMD2000型号
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纳米氧化铝高速分散机,金属氧化物纳米高速分散机 。纳米材料高速分散机纳米纳米氧化铝,纳米氧化锌,纳米氧化铈,纳米氧化铁,纳米氧化铋,纳料ATO合金研磨分散机是,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作

纳米金属氧化物

所谓纳米粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小,表面原子比例大,比表面积大,表面能大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒,乃至三次颗粒,使粒子粒径变大,在每个颗粒内部有细小孔隙。

纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。对于软团聚机理,人们的看法比较一致,即,软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致,由于作用力较弱,可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。


    纳米氧化铝是一种重要的无机功能材料,广泛应用于涂料、屏蔽紫外线、光电转换、光催化等领域。但是,由于纳米氧化铝粒径小、比表面积和表面能都很大,且配位严重不足,从而表现出***的活性,在分散介质中容易团聚,形成大的聚集体,团聚的存在又将大大阻碍纳米氧化铝优势的充分发挥,从而影响实际应用中的效果。因此如何改善纳米氧化铝粉体在液相介质中的分散性和稳定性成为十分重要的研究课题。

***纳米氧化铝的有机表面处理可以改善其在有机体系中的相容性和分散性,常用的表面改性剂有脂肪酸、偶联剂和高分子等,但现在这些改性所使用的分散体系均为水,如果要将纳米氧化铝应用到这些有机体系中,还须经过干燥将水除去,过程复杂,难以实现工业化。如果能直接在有机溶剂中对纳米氧化铝进行表面处理,得到纳米氧化铝在有机溶剂中稳定分散的浆液,就可以直接应用于纳米复合材料中


   

   一般来说,纳米颗粒在溶剂中的分散过程一般包括三个阶段,即纳米颗粒表面的润湿、机械分散、分散稳定。纳米颗粒与溶剂之间的润湿过程主要取决于纳米颗粒和溶剂本身的性质,良好的润湿性是实现纳米粒子在溶剂中稳定分散的前提条件。要实现纳米粒子的稳定分散,除了要求两者之间有良好的润湿性之外,机械分散也是一个重要因素。机械分散在纳米粒子分散过程中除了将团聚体解聚之外,更重要的是它通过纳米粒子结构的变化产生新的界面,促进润湿、吸附等表面反应的进行。


     未经表面处理的纳米氧化铝表面羟基具有一定活性,直接在N-MP中较难分散。为避免有机表面改性剂反应或附着在纳米粒子的团聚体上,必须要在改性前使纳米氧化铝均匀分散在N-MP中。为了达到上述目的,本发明提出一种纳米氧化铝表面处理方法,即以高速分散为分散方式,利用分散剂和钛酸酯偶联剂先对纳米氧化铝进行有机表面改性,以提高纳米氧化铝在N-MP中的分散性和稳定性。

高速分散过程一方面可以使团聚体逐渐减小,直到解聚为初级粒子;另一方面还会使纳米颗粒产生晶格缺陷,或因表面化学键断裂而产生不饱和键和自由离子等,导致分散剂和钛酸酯偶联剂在纳米粒子表面的吸附。

分散剂在溶剂中的作用主要有两个方面:一是降低纳米粒子的表面张力,增强溶剂对纳米颗粒表面的润湿作用,减小毛细管产生的吸附力;二是利用它们在固液界面的吸附作用,形成一层液膜,阻碍颗粒间相互接触,通过库仑力及空间位阻作用,防止颗粒接触及产生排斥力,抑制团聚体形成。

纳米金属氧化物一般国内采用3000转分散机或者3000转胶体磨,如果浓度低的话,效果还可以,如果浓度高的话,分散效果差,我们采用9000转的分散机或者9000转改进行分散机(研磨分散机)效果先

主要是 

























CMD 2000/10

8000

4,200

23

18

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

MD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和最终产品的要求。




影响分散乳化结果的因素有以下几点

 

 

分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

分散头的剪切速率 (越大,效果越好)

分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = 速率 (m/s) 
-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定
-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

 

速率V=3.14 X D(转子直径)转速 RPM / 60

 

    高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是最重要的。根据一些行业特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm,转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒经分布更窄。由于能量密度极高,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.


纳米金属研磨分散机,或者纳米金属分散机还可以运用到其他一些

纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、纳米三防整理剂等系列粉体、液体、制剂产品

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