深圳市托理拆利机电设备有限公司是Edwards爱德华真空泵授权代理商,为客户24小时提供技术支持及售后维保服务,包括小型干泵、工业用干泵、化学品干式泵、半导体干泵、涡轮分子泵、超高真空泵、扩散泵、油封泵、机械增压泵、液环泵、低温泵、泄漏检测、残余气体分析仪、真空组件等。针对各个行业工艺端设计提供适合的真空系统解决方案。技术服务:138,2378,8380
EDWARDS代理爱德华干式真空泵iXH645H、iXH1210、iXH1210H、iXH1220H
哪些半导体制程可能会用到真空泵?
干式真空泵是半导体各制程中***的通用设备,应用于单晶拉晶、Load-Lock、刻蚀、CVD、原子层沉积(ALD)、封装、测试等清洁严苛的制程。
EDWARDS干式真空泵系统有哪些系列和型号?
iH系列半导体干式真空泵型号包括:iH80、iH160、iH1000、iH1800
iXH系列半导体干式真空泵型号包括:iXH100、iXH200、iXH200H、iXH500H、iXH500Q、iXH610、iXH645H、iXH1210、iXH1210H、iXH1220H。
iXL系列半导体干式真空泵:iXL120、iXL120N、iXL1000、IPUP2、iXL250Q、iXL500Q、iXL500R、iXL750Q
EPX系列半导体干式真空泵:EPX180L、EPX180LE、EPX180N、EPX180NE、EPX500L、EPX500LE、EPX500N、EPX500NE。
GX系列半导体干式真空泵:GX100L、GX100N、GX300L、GX600L、GX600N、GX1000N。
IQDP系列半导体干式真空泵:IQDP40、IQDP80
QDP系列半导体干式真空泵:QDP40、QDP80
如何在半导体制造过程中获得高质量的真空环境?
在半导体制造过程中,经常涉及纳米级别的物理或化学反应,在这种情况下,若处于通常的大气状态将很大程度影响半导体质量。以外延生长为例,在常规环境下,晶体表面将接触几亿个气体分子,会阻碍外延层的有序排列,引入大量缺陷。合适稳定的真空度将为半导体的***性能提供有利基础。
半导体的工厂环境需要非常接近,千级、百级、十级是对空气颗粒度的要求,但是真空需要达到万分之一的压力,这个级别几乎是0级的,达到一个非常洁净的环境。
洁净的环境有两点不同的要求:
***、要稳定的维持在这个低压的环境,稍微的压力回升,就意味着杂余的分子会扩散回来,破坏掉洁净的环境。
***、真空泵在没有运作起来以前,是暴露在大气里的,所以我们的真空设备以及相关的电气控制设备,它的污染程度不能高于它所处的洁净环境,这就要求真空泵在制造过程中也要像生产F1赛车一样在一个洁净的环境里面去生产,所以这个是半导体真空泵面临的两个主要挑战。
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