详情介绍:概述STP-XA3203C涡轮泵为高真空到2300sccm制程流的制程范围内提供高性能,并提高气体的吞吐量。此泵基于新的平台设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。其***性能既适用于温和的应用环境,也适用于严苛的环境,例如半导体刻蚀、注入、光刻和LCD制程。应用金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)电子回旋共振(ECR)刻蚀薄膜沉积CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD溅射离子注入源,射束线泵送端点站MBE扩散光致抗蚀剂脱模晶体/晶膜生长晶片检查负载锁真空腔科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜高能物理:射束线、加速器放射线应用:融合系统、回旋