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高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.99***(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理-气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。自19世纪中期至今，溅射镀膜技术经历了170年的沉淀与发展逐步走向成熟。溅射镀膜技术起源于国外，所需要的溅射材料——靶材也起源发展于国外。1842年格波夫在实验室中发现了阴极溅射现象。
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