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钛金属靶材 钛旋转靶材 高纯铝靶材 铝旋转靶材

参数
  • 铝旋转靶材产品特性
  • TI1工件材质
  • 真空镀类型
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广州市尤特新材料有限公司
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产品详情

铝靶和钛靶通常配合起来使用。目前,在汽车电子芯片等需要110nm以上技术节点来***其稳定性和抗干扰性的领域,仍需大量使用铝、钛靶材。高纯贵金属靶材被誉为半导体芯片材料的***,半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求非常高,随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来,相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸、高纯度的方向发展,同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。

半导体芯片行业用的金属溅射靶材,主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材。铜靶和钽靶通常配合起来使用。目前晶圆的制造正朝着更小的制程方向发展,铜导线工艺的应用量在逐步增大,因此,铜和钽靶材的需求将有望持续增长。



尤特可为客户提供定制高纯溅射钛靶,钛靶材广泛用于各类光学玻璃,建筑汽车玻璃,触摸屏玻璃AR膜和保护膜,工具、刀具五金零件的保护硬膜,LOW-E玻璃。

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