M系列 是用于最小特征的高性能电镀厚度测量的产品。 M系列中的多毛细管光学元件比 O系列,将X射线束聚焦到15μmFWHM。 为了测量该比例的功能,随附了具有更高数字变焦的150x放大倍率相机。 更高的放大倍率会限制视野,因此***台摄像机拍摄了要测量零件的宏观图像。 双摄像头系统使操作员可以看到整个零件,单击图像以使用高磁摄像头放大,并***要测量的特征。
高精度可编程XY平台可用于选择和测量多个点; 模式识别软件也可以自动执行该操作。2-D连续扫描功能可查看硅片等部件表面区域的涂层形貌。
标准配置包括15μm光学器件和高分辨率SDD检测器,以处理更高的计数率。 可编程XY样品台也是标准配置。 光学系统的焦距很近,因此使用M系列测量的样品必须平坦。
性能表现
镍钯金 | 化学镍 | ||||
---|---|---|---|---|---|
μmAu | μmPd | μmNi | μmNiP | μm%P | |
Ave | 0.043 | 0.08 | 3.72 | 10.202 | 10.17 |
StdDev | 0.0005 | 0.0009 | 0.00010 | 0.1089 | 0.29 |
Range | 0.0015 | 0.0030 | 0.040 | 0.3863 | 0.9900 |
%RSD | 1.05% | 1.13% | 0.03% | 1.07% | 2.85% |
M系列可满足以下类型用户的需求:
非常小的样品,主要应用于半导体,连接器或PCB领域
需要测试多个样品的多个位置
非常薄的涂层(<100nm)
需要在短时间内完成测量(1-5秒)
***符合IPC-4552A,4553A,4554和4556
ASTM B568,DIN 50987和*** 3497
产品规格
X射线管: | 50W钼靶射线管 15um毛细管光学结构 |
探测器: | 135eV分辨率的硅漂移探测器 |
分析层数 及元素数: | 5层(4层+基材) 每层可分析10种元素,成分分析最多可分析25种元素 |
滤波器/准直器: | 4位置一次滤波器 |
焦距: | 固定在0.05“(1.27mm) |
数字脉冲处理: | 4096 多通道数字处理器,自动死时间和逃逸峰校正 |
计算机: | 英特尔, 酷睿 i5 3470 处理器 (3.2GHz), 8GB DDR3 内存, 微软 Windows 10 专业版, 64位 |
相机: | 1 / 4“(6mm)CMOS-1280×720 VGA分辨率,带双摄像头的250X或45mm(381”)屏幕上带单摄像头的15X |
视频放大倍率: | 250X:配备双摄像头45X:15上的单摄像头“屏幕 |
电源: | 150W,100-240V,频率范围为47Hz至63Hz |
工作环境: | 温度介于68°F(20°C)与77°F(25°C)之间,相对湿度小于98%,无冷凝 |
重量: | 70kg |
可编程XY平台: | 工作台尺寸:431 mm(17“)x 406mm(16”)| 行程:165mm(6.5“)x 165mm(6.5”)高精度 现在可用 扩展 舞台选择 |
样品仓尺寸: | 高度:137mm(5.4"),宽度:310mm(12"),深度:340mm(13") |
外形尺寸: | 高度:500mm(20"),宽度:450mm(18"),深度:600mm(24") |