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膜厚测试仪 可测化学镍中P含量高精度X荧光测厚仪

参数
  • 台式产品特性
  • 是否进口
  • 美国产地
广东 深圳 5天内发货 200台
深圳市鼎极天电子有限公司 1年
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产品详情

M系列 是用于最小特征的高性能电镀厚度测量的产品。 M系列中的多毛细管光学元件比 O系列,将X射线束聚焦到15μmFWHM。 为了测量该比例的功能,随附了具有更高数字变焦的150x放大倍率相机。 更高的放大倍率会限制视野,因此***台摄像机拍摄了要测量零件的宏观图像。 双摄像头系统使操作员可以看到整个零件,单击图像以使用高磁摄像头放大,并***要测量的特征。

高精度可编程XY平台可用于选择和测量多个点; 模式识别软件也可以自动执行该操作。2-D连续扫描功能可查看硅片等部件表面区域的涂层形貌。

标准配置包括15μm光学器件和高分辨率SDD检测器,以处理更高的计数率。 可编程XY样品台也是标准配置。 光学系统的焦距很近,因此使用M系列测量的样品必须平坦。



性能表现


镍钯金化学镍

μmAuμmPdμmNiμmNiPμm%P
Ave0.0430.083.7210.20210.17
StdDev0.00050.00090.000100.10890.29
Range0.00150.00300.0400.38630.9900
%RSD1.05%1.13%0.03%1.07%2.85%

M系列可满足以下类型用户的需求:

  • 非常小的样品,主要应用于半导体,连接器或PCB领域

  • 需要测试多个样品的多个位置

  • 非常薄的涂层(<100nm)

  • 需要在短时间内完成测量(1-5秒)

  • ***符合IPC-4552A,4553A,4554和4556

  • ASTM B568,DIN 50987和*** 3497

产品规格

X射线管:50W钼靶射线管 15um毛细管光学结构
探测器:135eV分辨率的硅漂移探测器
分析层数 
及元素数:
5层(4层+基材) 每层可分析10种元素,成分分析最多可分析25种元素
滤波器/准直器:4位置一次滤波器
焦距:固定在0.05“(1.27mm)
数字脉冲处理:4096 多通道数字处理器,自动死时间和逃逸峰校正
计算机:英特尔, 酷睿 i5 3470 处理器 (3.2GHz), 8GB DDR3 内存, 微软 Windows 10 专业版, 64位
相机:1 / 4“(6mm)CMOS-1280×720 VGA分辨率,带双摄像头的250X或45mm(381”)屏幕上带单摄像头的15X
视频放大倍率:250X:配备双摄像头45X:15上的单摄像头“屏幕
电源:150W,100-240V,频率范围为47Hz至63Hz
工作环境:温度介于68°F(20°C)与77°F(25°C)之间,相对湿度小于98%,无冷凝
重量:70kg
可编程XY平台:工作台尺寸:431 mm(17“)x 406mm(16”)| 行程:165mm(6.5“)x 165mm(6.5”)高精度
现在可用 扩展 舞台选择
样品仓尺寸:高度:137mm(5.4"),宽度:310mm(12"),深度:340mm(13")
外形尺寸:高度:500mm(20"),宽度:450mm(18"),深度:600mm(24")


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