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零部件清洗全自动纯水设备 电镀厂纯净水设备

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武汉瑞沃净水设备有限公司 4年
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进水水质控制

(1)进水电导率的控制。严格控制前处理过程中的电导率,使EDI进水电导率小于40μS/cm,可以***出水电导率合格以及弱电解质的去除。

(2)工作电压-电流的控制。系统工作时应选择适当的工作电压-电流。同时由于EDI净水设备的电压-电流曲线上存在一个极限电压-电流点的位置,与进水水质、膜及树脂的性能和膜对结构等因素有关[4]。为使一定量的水电离产生足够量H+OH-离子来再生一定量的离子交换树脂,选定的EDI净水设备的电压-电流工作点必须大于极限电压-电流点。

(3)进水CO2的控制。可在RO前加碱调节pH,限度地去除CO2,也可用脱气塔和脱气膜去除CO2

(4)进水硬度的控制。可结合除CO2,对RO进水进行软化、加碱;进水含盐量高时,可结合除盐增加一级RO或纳滤。

(5)TOC的控制。结合其他指标要求,增加一级RO来满足要求。

(6)浊度、污染指数的控制。浊度、污染指数是RO系统进水控制的主要指标之一,合格的RO出水一般都能满足EDI的进水要求。

(7)Fe的控制。运行中控制EDI进水的Fe低于0.01

mg/L。如果树脂已经发生了中毒,可以用酸溶液作复苏处理,效果比较好。[1] 

(8) EDI系统进水水质要求

综合以上各方面的分析,对于EDI进水的水质要求如表所示,可以***其出水指标达到电子行业半导体制造需要的高纯水的要求。

应用服务

EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。 YR-EDI 进水要求成 分 范 围总可交换阳离子(包括Co2<25mg/L(以CaCo3计) PH5-9 硬度(CaCo3计) <0.1 <0.5 <0.75 <1.0 回收率 95% 90% 85% 80% 活性Sio2<0.5mg/L 总有机碳(TOC<0.5mg/L 游离氧 <0.5mg/L YR-EDI 技术规格参 数 范 围单个模块流量 7.2-15GPM1.6-3.4m3/h)正常回收率 80-95% 温度 40-100°F5to38°C)进口压力 45-100psi3.1-6.8Bar)输入电压 600VDC()电耗 0.32-0.66KW.h/m3 外形尺寸 12"Wx24"Hx19"D 300mmWx610mmHx(90mmD

应用领域

1、半导体及电子行业-超纯水
  2、生物及制药行业-纯化水
  3、发电厂-锅炉补给水
  4、表面涂装
  5、消费品及化妆品行业
  6、代替各类蒸馏水
  7、其它对水的纯度要求高的行业[1] 


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