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北京 朝阳区
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产品详情
centrotherm CLV200 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产
CLV200 小批晕生产用垂直炉管
I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产
centrotherm C LV 200 是一个独立的小批量晶圆 生产设备，能实现各项热处理工艺，适用于少量生产及 研发。
cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着独特的设计， 升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小（一批至多 50 片晶圆）， CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺，降低顾客研发费用。
cent rot herm 的设计在高效， 低耗上非常出色， 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。
常压工艺退火
氧化
扩散LPCVD PECVD
温度可达 11 00° C
净化间占用面积小 [1.6 m叮
售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批可处理 50 片晶圆
售 全自动 cassette -to-cassette 传片
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产品参数
- 功率器件
- 是
- centrotherm
- 高温炉
- Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管 CLV200
- 快速退火炉
- 小于1850
- 1800
- 1400
- 可调
- 1000
- 1000
