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centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150

参数
  • SiC退火产品特性
  • 加工定制
  • centrotherm 德国品牌
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北京亚科晨旭科技有限公司 1年
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产品详情

centrotherm   SiCGaN退火及石墨烯生长 Activator150


centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物(SiC)或镓-氮化合物(GaN) 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体, 如研发炉和批量生产炉, 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低,所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。

 

特点:

高活化率

表面粗糙程度最小

温度达 1850°C

批量规模高达 50硅片(150mm

加热率达 150 K/min

通过SiH4可实现硅“过压


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