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吉永商事YOSHINAGA 日本MOCVD成膜设备治具专用清洗机NBC-465C
- ¥10.00 1台起批
- ¥9.00 2台
- ¥8.00 ≥3台
参数
- 高效稳定产品特性
- 是加工定制
- YOSHINAGA品牌
上海 长宁区
88天内发货
4台
产品详情
设备概要：
该设备是一台清洗设备，旨在去除附着在 MOCVD 设备中，基座和零部件上的沉积物（GaN、AlN 等）。
由于采用的是需要洁净气体的干式清洁法，因此不需要湿式清洁等后道处理，可减少基座和零部件的损伤。
设备优点：
1. 利用洁净气体进行干式清洁，减少对基座造成的损伤
可有效去除沉积物的同时，不会像其他清洗方法一样损坏基座和零部件的表面。
2. 无需后道处理工序，不用处理废液
可提高生产效率并降低运行成本。
3. 全自动清洗系统
将基座和零部件放入清洗机后，只需一次开关操作即可开始清洗。
4. 可兼容大型基座
可兼容外径为 φ800 mm 的大型基座。 一次清洗可处理6张。
5. 节省空间的设计
采用箱形腔体，节省空间、节能。
清洁原理：
通过在高温下使GaN、AlN等沉积物与H2、CL2等洁净气体反应，使得沉积物气化，从而最终达到去除的目的。
在不损坏基座表面的 SiC 涂层和石英部件的条件下便可去除沉积物。
我们将根据销售实绩，通过不同的清洗配方有效去除沉积物。
产品规格：
我们可根据您的要求定制相应规格。
清洗效果实例：
Before After
目前有一台 NBC-800C 型的demo机，可使用各种洁净气体（H2、Cl2、HCL、N2）进行清洗测试。
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在线问
产品参数
- 高效稳定
- 是
- YOSHINAGA
- NBC-465C；NBC-800C
- 用于MOCVD成膜设备治具的清洗
- MOCVD治具清洗机
- 通过洁净气体加热反应法进行干洗
- SiC涂层碳、石英等
- 3P3W 120kVA
- 75L/min （各）
- 10L/min
- 40L/min
