平行板式PECVD沉积系统
¥10000.00
- 商品
- 详情
参数
- 否加工定制
- trymax品牌
- NEO2400型号
北京 朝阳区
90天内发货
200000台
平行板式PECVD沉积系统
¥10000.00
产品详情
Trymax 光刻胶剥离和灰化 等离子去胶机/清洗设备
Trymax 设备 Neo300系列是目前用于光刻胶剥离和灰化的进的等离子体去胶系统;
它是目前Trymax NEO系列中的全自动单腔体的可配置NEO系列中所有模块的等离子设备，可满足生直接300MM的衬底需求。NEO300A是单腔体拾取占地体积小。
• 应用：
- 晶圆或基板尺寸为100-150-200 mm；
- 3 or 4上料盒or 2 个集成 上料槽
- 带晶圆拾取功能的5 轴双臂机械手功能；
- 4种进程模块可供选择:
• 微波模块(2.45 GHz)
• RF模块 (13.56MHz)
• 双源 (微波, RF)
• DCP (RF, 双射频)
- 良好的一致性和可重复性
- 机械速率 > 220wph
- 占地面积小
- 使用成本低
-全数字控制
-工业计算机Windows
• 产品应用
产品应用
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
- 浮渣去除
- 化学残余物去除
-高剂量离子注入光刻胶的去除
- 氮化硅刻蚀
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
• 认证：
- SEMI S2-01
- SEMI S8-01
- CE EU-RoHs
为您推荐
-
ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500 ¥10000.00
-
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150 ¥10000.00
-
Panasonic 松下等离子清洗设备 ¥10000.00
-
-
Sonoscan D9600 C-SAM 超声波扫描显微镜 ¥2000000.00
-
-
-
-
美国Bruker-微纳压痕测试仪CETR-Apex ¥10000.00
-
美国Bruker-机械与性能摩擦测试-UMT TriboLab ¥1000000.00
-
MultiMode®-HR扫描探针显微镜 ¥1000000.00
-
在线问
产品参数
- 否
- trymax
- NEO2400
- 光刻胶剥离及灰化设备
- 去胶机
- 1
