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EVG610光刻机,紫外接触式光刻机

参数
  • 光刻机产品特性
  • 加工定制
  • EVG品牌
上海 青浦区 100天内发货 10台
上海螣芯电子科技有限公司
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产品详情

     

    特点:

     晶圆/基片尺寸从零碎片到200毫米/ 8英寸

      顶部和底部对准功能

      高精度对准

      自动楔形补偿序列

      电动的和程序控制的曝光间隙

      支持***的UV-LED技术

      最小化系统占地面积和设施要求

      分步流程指引

      远程技术支持

      多用户概念(***数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同语言)

     敏捷的处理和转换重新加工

      台式或独立式带防振花岗岩台面

      附加功能:

         键合对准

         红外对准

         纳米压印光刻(NIL

关键技术参数:

       顶部对准精度:≤ ± 0,5 微米

       底部对准精度:≤ ± 2,0 微米

       红外对准模式:≤ ± 2,0 微米/取决于基片的材料

        接触:硬、软接触,真空

       曝光间隙:1 - 1000 微米

       线宽精度:1微米

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