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半导体扩散炉 低温钝化炉 青岛晨立供应 卧式扩散炉

参数
  • 氧化扩散产品特性
  • 加工定制
  • CL-扩散炉品牌
山东 青岛 30天内发货 99台
青岛晨立电子有限公司
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产品详情

半导体扩散炉设备用途:用于大规模集成电路、电力电子、光    电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。设备特点:单元组合方式。根据工艺的不同,可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。    

主要技术指标:

★ 炉管数:1~4管

★ 配工艺管口径:Φ90~360 mm (3~12英寸)

★ 恒温区长度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃)  760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃)

★ 单点稳定性: ±1.0℃/24h (300~800℃)    ±0.5℃/24h (800~1280℃)

★ 气源路数:    ≤7路,可配恒温源瓶、氢氧合成点火器

★ 气体控制:    浮子/质量流量计

★ 悬臂舟参数: 速度:    20~1000 mm/min    行程:2000 mm    定位精度:±1 mm    载荷:17 Kg

★ 超净工作台: 净化等级:100级(万级厂房)噪音:    ≤62dB(A)振动:    ≤3μm

晨立6"***扩散炉设备新鲜出炉,技术和质量已达国际水平,受到半导体设备制造企业和半导体行业高度关注.可完全替代国外同规格高端产品满足不同工艺的要求.



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