反应性工艺
Qulee RGM2 系列
RGM2-202
ULVAC
反应性气体分析仪Qulee RGM2-202/RGM2-302是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC***的离子源和排气系统结构,具有优良的抗活性气体腐蚀性能,长期稳定测量。
特点
可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
采用具有磁场的Claude离子源
软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附,同时气体离解较少
紧凑型流量控制阀
处理室到离子源的距离很短,可以快速响应分辨率
可以测量宽范围的压力10-6 to 13kPa(口径可选)
无需电脑也可以测量
One Click机能(对每个人来说都很容易,不需要复杂的操作)
连接传感器单元时,可以进行120℃的高温烘烤
离子源,二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性(***申请中)
可进行氦气检漏,漏气测试
标准搭载软件(Windows 7/8/10)
用途
蚀刻和CVD设备
监测工艺中的反应气体
蚀刻和清洁工艺的末端监测
残留气体测量
检漏
规格
型号 | RGM2-202 | RGM2-302 |
传感器 | ||
质量分离方式 | 四极型质量分析仪 | |
质量数范围 | 1~200 amu | 1~300 amu |
分解能 | M/△M=1M (10%P.H.) | |
检出器 | SEM/法拉第杯 | |
感度 | 1×10-3 A/Pa | |
最小检知分圧 | 1×10-10 Pa | |
离子源 | 带磁铁的闭合离子源 | |
灯丝 | V字型 Ir/Y2O₃ 1个 | |
电力电压 | 20~70 eV | |
放射电流 | 10μA | |
放大器范围 | 1×10-5~1×10-12 A | |
可烘烤温度 | 120℃ | |
差動排气系统 | ||
气体导入阀 | 带孔流量控制阀 | |
采样压力 | 13kPa | |
差动排气系统 | 带中间排气,吹扫的涡轮分子泵。 | |
涡轮分子泵 | 67L/s:N₂ | |
前级泵 | DIS090 | |
皮拉尼真空计 | SW1-1 | |
电离真空计 | GI-M2 | |
质量 | 排气系:57kg/控制系:38kg | |
效用 | ||
电源电压 | AC100V 15A | |
压缩空气 | Dry N2:0.4~0.7MPa (Φ6一触式配件) | |
控制器单元 | ||
One Click功能 | 有/He/H2O/N2/O2/Any gas | |
PC交互 | RS-232C/485 | |
外部入输出 | 类似物输入2点(0-10V) | |
设***输出2点(异常、警告) | ||
外部联锁(压力保护) | ||
其他 | ||
烘烤加热器 | 带式加热器 | |
高度调整架 | 标准 | |
传感器部一控制部链接电线 | 约5m | |
接口 | Ethernet | |
软件 | Qulee QCS Ver.4.0以降(Windows 7/8/10 対応) | |
选项 | PC |