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全自动无掩膜光刻机可定制晶圆尺寸4-12寸

参数
  • 接触式曝光产品特性
  • 加工定制
  • 螣芯科技品牌
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上海螣芯电子科技有限公司
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产品详情

全自动光刻机4/6寸兼容型(Mask Aligner)

自动单 /双面接近式曝光机,兼容方形片光刻   4-12寸晶圆单、双面曝光机   灵活多选定制

主要应用:MEMS制造、CMOS图像传感器、存储器、声波器件、微流体芯片、化合物半导体、  晶圆级***封装、(TSV)等领域。

wafer 6”(100-150mm 全自动曝光机兼容型

把涂有光刻胶的晶圆与掩膜重叠,专用显微镜和X・Y・θ,实现多层曝光时的自动对位,

对位台。自动进行基板调整、对位、曝光、传送。


主要特点:

◆ 采用自动平行调整机构,能够高精度地设定掩膜与Wafer间的近接间隙。

◆ 利用独自的高速图像处理技术,实现高精度的对位。

◆ 利用图像处理技术,使预对位可对应薄型基板或翘曲基板及水晶等易碎Wafer(选购项)。

◆ 利用独自的接触压力精密控制机构,能够使Wafer与掩膜高精度地接触。

◆ 通过Wafer的背面机械手真空吸着方式,实现高速度和高精度以及稳定的自动搬送。


规格参数


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