大塚电子从其创立之初就以光散射技术和分离技术为基础，这些技术不仅是公司的技术根源，也是新材料分析的核心技术并以这些技术开发、生产和销售独特的产品。利用光散射技术的产品是大塚电子历史最悠久的产品系列之一。在许多大学、官方机构和企业中，做为功能材料和新材料物性评估测量设备被高度评价。在接受各方面的建议和帮助下，不断开发分子量测定、微粒子粒径测定和电位测定设备，并在各应用领域进行改进。同时，从基础研究到质量控制的用途不断扩大，在这一领域已经成为日本的国产制造商，获得了极高的信任。
利用光散射作为新材料分析的核心技术，并将其应用于纳米技术领域的物性测量。以粒子大小、电位和分子量的测量方法作为基准，拓展新材料、生命科学、高分子化学，以及半导体和医药等领域的应用。
高速相位差测量装置 RE-200
产品信息 特 点 可测从0nm开始的低（残留）相位差 光轴检出同时可高速测量相位差(Re.) （相当于世界最快速的0.1秒以下来处理） 无驱动部，重复再现性高 设置的测量项目少，测量简单...
特 点
● 可测从0nm开始的低（残留）相位差
● 光轴检出同时可高速测量相位差(Re.)
（相当于世界最快速的0.1秒以下来处理）
● 无驱动部，重复再现性高
● 设置的测量项目少，测量简单
● 测量波长除了550nm以外，还有各种波长
● Rth测量、全方位角测量
（需要option的自动旋转倾斜治具
● 通过与拉伸试验机组合，可同时评价膜的偏光特性和光弾性
(本系统属特注。）
测量项目
● 相位差（ρ[°], Re[nm]）
● 主轴方位角（θ[°]）
● 椭圆率（ε），方位角（γ）
● 三次元折射率（NxNyNz）
用 途
● 位相差膜、偏光膜、椭圆膜、视野角改善膜、各种功能性膜
● 树脂、玻璃等透明、非均质材料（玻璃有变形，歪曲等）
